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Crystec Technology Trading GmbH
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Crystec Technology Trading GmbH, Germany,
www.crystec.com, +49 8671 882173, FAX 882177

Es ist bekannt, dass Wasserstoff für das anlauffreie
Härten von Metallen aller Art unverzichtbar ist. Vom
Sicherheitsstandpunkt aus und aus ökonomischer Sicht ist Wasserstoff allerdings keine sehr
vorteilhafte Atmosphäre. Dissoziierter Ammoniak oder "Formiergas"
ist das einzige Gas, das die Nachteile von reinem Wasserstoff ausgleichen kann
und nahezu die gleichen Eigenschaften wie dieser aufweist. In manchen
Fällen kann Formiergas reinen Wasserstoff zwar nicht ersetzen; das kommt aber
selten vor. Fast immer erfüllt dissoziierter Ammoniak die
gestellten Anforderungen.
Der Koyo Thermo Systems NH3-Spalter
"AM" wird für die Formiergasherstellung genutzt. Wasserstoff
und Stickstoff werden kostengünstig im Volumenverhältnis 3 : 1
bzw. im Masseverhältnis 14 : 3 erzeugt. Anlagenkapazitäten
von 5m3/h bis 60m3/h sind verfügbar.
2 NH3
N2 + 3 H2
Als Folge der vollständigen Dissoziation
in Wasserstoff und Stickstoff verbleibt nur noch ein kleiner Restanteil
nicht-dissoziierten Wasserstoffes und der Taupunkt des produzierten Gasgemisches ist sehr
niedrig.
Das so hergestellte Formiergas wird häufig in Durchlauföfen oder Rohröfen für
Temperprozesse in reduzierender Atmosphäre, beim Hartlöten, Sintern, für die
Oxidentfernung und zur Nitridierung genutzt. Sie finden mehr Informationen über die
entsprechenden Öfen in unserer Koyo Thermo Systems
Produktübersicht.
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AM Gasgenerator.Beschreibung:
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Für Industrieöfen stehen weitere Gasgeneratoren zur Erzeugung von endothermem Gas, bestehend aus Wasserstoff, Kohlenmonoxid und Stickstoff und exothermem Gas, bestehend aus Wasserstoff, Wasserdampf, Kohlenmonoxid, Kohlendioxid und Stickstoff zur Verfügung.
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QuarzteilereinigungPolyflow produziert Reinigungsanlagen,
die alle Quarzteile eines Ofens,
Boote, Prozessrohre, Liner, Podest, Beladearme, T/C-Rohre, Kleinteile
reinigen können. Die Reinigung erfolgt in einem Säure-Sprayverfahren.
Eine Kombination aus fest installierten und beweglichen Düsen
sorgt für eine effektive Reinigung und leichte Beladung der Anlage. Verschiedene
Anlagen für Quarzteile aus Vertikalöfen und Horizontalöfen für bis zu
300mm Wafer stehen zur Verfügung. Die Trocknung der Teile erfolgt in
der Anlage. Die Bedienung erfolgt einfach über einen Touch-Screen
Steuerung. Die Anlagen bestehen im Wesentlichen aus Polypropylen und
PVC. Brandsichere Kunststoffe CPVC und PVDF können verwendet werden.
Einzelheiten zu den verfügbaren Anlagen finden Sie auf unserer
Web-Seite für Quarzteilreinigung.
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KassettenreinigungAuch für die Reinigung von Wafer-Kasetten, SMIF, FOUP, FOBS stehen
Reinigungsanlagen zur Verfügung. Die neueste Anlage zur Reinigung von
300mm FOUP / FOSB Kasetten demontiert vollautomatisch den Deckel und
reinigt ihn separat. Im Sprühverfahren werden die FOUP bzw. FOSB
Kasetten von innen und außen gereinigt.
Die Trockung erfolgt durch Abblasen und nicht durch Rotation. So
besteht nicht die Gefahr der Beschädigung und die Verwendung von
Stahlteilen kann vermieden werden. Kontaminationsgefahr besteht daher
bei dieser Reinigungsmethode nicht. Der Durchsatz dieser Anlage ist mit
27 FOUP/h sehr hoch. Details finden Sie auf unserer Seite zum Thema
Kasettenreinigung.
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Koyo Thermo Systems produziert spezielle LGO Rohrheizelemente mit einer sehr niedrigen thermischen Masse für die Nutzung in Halbleiteröfen. Diese Heizelemente können auch für installierte Öfen anderer Hersteller angeboten werden. Details über diese Heizelemente finden Sie auf unserer LGO-Heizelement-Seite.
MoldathermTM Heizelemente
Es kann auch ein
Stange Controller für die Anzeige genutzt werden.
Wir können Ihnen die richtige Konfiguration für Ihre Anwendung anbieten.Für die Messung von Wasserstoff kann ein Sensor, basierend auf der Messung der thermischen Leitfähigkeit des Gases eingesetzt werden.
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EntgifterSemiAn produziert
Abgasreinigungssysteme für die Entgiftung
von Abgas aus Halbleiterproduktionsstätten sowie aus Fabriken
für die Produktion von Flachbildschirmen und Solarbatterien. Das
Gas wird in einer Kombination von Nasswäschern und elektrischem Brenner
gereinigt. Nach der Reinigung des einströmenden Gases durch einen
Wassersprüher wird das Abgas durch thermische Oxidation in einem
elektrisch beheizten Reaktor zersetzt. Das behandelte Gas wird in einem zweiten Wäscher
abgekühlt und nochmals gereinigt, bevor es an die Umgebung
abgegeben wird. Um Druckschwankungen zu vermeiden und den vorgeschalteten CVD-Prozess
nicht zu stören, wird der Differenzdruck des Entgifters mittels
eines Inverters konstant gehalten. Großer Wert wird bei SemiAn
auf die Betriebsicherheit gelegt. Warn- und Alarmeinrichtungen wurden
optimiert. Die Anlage ist voll CE zertifiziert. Einfache Bedienung wird
über einen LCD Touch-Screen gewährleistet. Für den Betrieb werden
lediglich Wasser und Strom benötigt. Die Betriebskosten
können daher niedrig gehalten werden.
Für einfache Nachverbrennprozesse können wir auch Systeme von Koyo Thermo Systems anbieten. Information finden Sie auf unserer INH-Ofenseite. |
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