| Lavador de gas de escape: Combinación de quemador y lavador | ||
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Este tipo de desintoxicación de gas de escape se compone de diferentes pasos. En el primer paso se eliminan con un lavador los gases disolubles y corrosivos para proteger el quemador que se encuentra después. La Serie SWB de Scrubbern tiene esta opción,la Serie SWB no la tiene. La instalación de este lavador es provechosa cuando el gas de escape tiene hidrógenos halógenos de alta corrosión como HCL o HBr o cuando el gas de escape tiene halógenos metálicos como WF6 El segundo paso es la parte más importante del Scubber: La cámara calentada con elécticidad en la que se descomponen los componentes que no se disuelven en agua. El gas de escape se calienta y los elementos tóxicos se oxígenan con oxígeno. La distribución de la temperatura es muy importante en este paso.La distribución tiene que llegar a un valor mínimo para lavar el gas de escape. Durante la descomposición se forma mucho polvo. A veces se forman también gases de alta corrosión. Este polvo tiene que ser eliminado en los siguientes pasos. Después de haber pasado por un ciclón llega el agua a un segundo lavador. El agua se renueva en un tanque de circulación que puede ser enfriada opcionalmente. Después de este paso se elimina el resto de la humedad con un secador.

SemiAn vende diferentes tipos de Scrubber de calor y humedad. Estos están detallados en la siguiente tabla. Todas las partes importantes son hechas en acero fino. El reactor mismo es hecho de inconel y la bomba es recubierta con teflón. El reactor tiene un calentador que se puede adaptar a los deseos de los clientes El reactor puede ser lavado automáticamente y se controla por un PLC y un reglaje de temperatura. El manejo y la visualización se hacen por medio de un monitor TFT. Opcionalmente se puede comprar un elemento de control central en el que se deja ver el estado de todas los lavadoras conectadas en el control central. Hay instaladas diferentes funciones de seguridad, interlock, y sistemas de control. La superficie de la planta a sido minimizada para disminuir los precios.
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| SBW200 |
SWB200 |
SBW201 |
Limpiador de gases de escape para la descomposición térmica y la oxidación de componentes venenosos. La desintoxificación resulta en tres pasos: Lavado de elementos solubles en el gas de escape, descomposición pirofórica de elementos tóxicos y queemables con lavado con un lavador y un sistema de circulación de agua. Este tipo de limpiador es útil para limpiar de gases que se forman en la producción de plantas de PE-CVD, LP-CVD, y AP-CVD así como gases de escape de motores MO-CVD reactores (optoelectrónica).
Limpiador grande de gases de escape para la descomposición térmica y la oxidación de componentes venenosos en dos pasos: descomposición pirofórica de elementos tóxicos y quemables con lavado con un lavador y un sistema de circulación de agua. Este tipo de limpiador es útil para la limpiar de gases que se forman en la producción de plantas de PE-CVD, LP-CVD, y AP-CVD así como gases de escape de motores MO-CVD reactores (optoelektronica).
Los siguientes productos químicos se dejan eliminar con estos lavadores. En la tabla se muestran la concentración de entrada máxima y concentración de salida mínima de los elementos tóxicos, así como los valores TLV (valores maximos) y la reacción que se produce en el reactor. Se eliminan hidrógenos halógenos de alta corrosión como HCL o HBr. El gas clórico que se forma es convertido en HCl y ácido bajo en cloro.
| Gas | Concentración de entrada máxima in ppm |
Concentración de salida mínima in ppm |
TLV in ppm |
Efciéncia in % |
Reacción química an el quemador. |
| AsH3 | 5,000 | 0.01 | 0.05 | >99.99 | 2 AsH3 + 3 O2 |
| B2H6 | 2,500 | 0.01 | 0.1 | >99.99 | B2H6 + 3 O2 |
| C2F6 | 50,000 | 1200 | n.a. | 97.60 | C2F6 + 2 O2+ 3 H2 |
| Cl2 | 10,000 | 1 | 1 | 99.99 | stable |
| GeH4 | 4,000 | 0.02 | 0.2 | >99.98 | GeH4 + 2 O2 |
| H2 | 125,000 | 0.5 | 5 | >99.99 | 2 H2 + O2 |
| HCl | 3,000 | 1 | 5 | 99.97 | stable |
| NF3 | 50,000 | 5 | 10 | 99.99 | 4 NF3 + 3 O2 |
| NH3 | 10,000 | 5 | 25 | 99.95 | 4NH3 + 3 O2 |
| PH3 | 6,000 | 0.01 | 0.3 | >99.99 | 2 PH3+ 4 O2 |
| SF6 | 5,000 | 75 | 1,000 | 98.50 | SF6 + O2
+ 3 H2 |
| SiF4 | 4,000 | 1 | n.a. | 99.98 | SiF4 + O2 |
| SiH2Cl2 | 1,000 | 1 | 5 | 99.90 | 2 SiH2Cl2+ 3 O2 |
| SiH4 | 16,000 | 0.5 | 5 | >99.99 | SiH4 + 2 O2 |
| Proceso | Gas tipico | Recomendaciónes para diferentes tipos de lavadores de gas de escape | |
| Corocer seco | Metal | Cl2, BCl3, SiCl4, CHF3, CF4, SF6 | SSD o SWB |
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poly-silicio | HBr, Cl2, NF3, SF6 | SSD o SWB |
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Nitrido | HBr, CF4, SF6 | SSD o SWB |
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W, Al Oxid | Cl2, SF6, CHF3, CF4, NF3 | SSD o SWB |
| PECVD | BPSG | TEOS, TMP, TMB, N2O, SIH4, B2H6, PH3, C2F6/NF3 | SBW |
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PSG | SiH4, PH3, N2O, TEOS, TMP, C2F6/NF3 | SBW |
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Oxido/Nitrido | SiH4, NH3, N2O, C2F6/NF3 | SBW |
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Wolfram | WF6, NF3, SiH4 | SBW |
| LPCVD | Nitrido | DCS, NH3 | SBW |
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poly-silicio | SiH4 | SBW |
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TEOS (dotado) | TEOS, PH3 | SBW |
| Ionenimplanter | B2H6, BF3, PH3, AsH3, Ar | SSD o SBW | |
| MOCVD | GaAs | H2, AsH3, MO sources | SBW |
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InP | H2, PH3, AsH3, MO sources | SBW |
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GaN | H2, NH3, MO Sources | SBW |
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