Nettoyage de gazes par lavage à l'eau.
SemiAn

SemiAn Technology est représentée en Europe par
Crystec Technology Trading GmbH

Crystec
contenu ccf email English   deutsch   francais
SemiAn Korea   Société    Lavage   Humide+Combustion   Catalyse

Nettoyage de gazes par lavage à l'eau

Notre laveur par voie humide représente une méthode simple pour purifier l’air ou des gaz d’échappement. Dans le laveur, le gaz est intensivement mis en contact avec de l’eau ou une autre liquide, avec ou contre le sens d’un courant de très petites gouttes diffusées finement. Ainsi, on atteind un décrassage ou lavage de la phase du gaz. La machine travaille plus éffective, plus la surface de la liquide de nettoyage et du gaz à nettoyer est grande. La surface croît quand les gouttes deviennent plus fines. La liquide de nettoyage est conduite circulairement pour diminuer la consommation d’eau et la quantité d’eau résiduaire.

wet scrubber
Ainsi, les composantes suivantes peuvent être éliminées du gaz d’échappement:

Le résultat est la détoxication, l’élimination des poussières, la déshymidification, repectivement la condensation, ainsi que la désodorisation au profit de notre environnement.
Particulièrement les pollutions hydrosolubles sont enlevées très effectivement du gaz. La liquide de nettoyage sera possiblement pollue par les matières ôtées du gaz. Par ces matiéres, il s’agit souvent de produits chimiques acides ou basiques, par exemple d’acide chlorhydrique HCI, de nitrogène oxyde ou de’ammoniac NH3. Une dispositif de neutralisation intégrée au laveur, permet aux eaux résiduaires de maintenir un pH neutre qui sont donc détoxifiées. Pour les composantes gazeux basiques, une liquide de lavage légèrement acide est plus efficace, pendant qu’on obtient des résultats meilleures avec une liquide de lavage basique pour l’élimination de résiduel gazeux acide.

Si des poussières sont abattues en quantités notables, elles forment une boue qui doit être filtrée de l’eau résiduaire, et qui doit possiblement être traitée comme déchet toxique.

Des matières hydrosolubles se décomposent dans l’eau. Pendant cette réaction chimique, des autres produits hydrosolubles en peuvent se former, qui sont filtrés du gaz immédiatement. En cas que des composantes solides résultent de la réaction chimique, celles-ci sont ramassées dans un bassin de réception, où elles sont filtrées et écartées. Dans l’industrie des semiconducteurs, on utilise les laveurs par voie humide pour éliminer TEOS, TiCl4 (Titantetrachloride), ou HMDSO (Hexamethyldisiloxan).

La méthode de lavage humide se combine bien avec des autres méthodes de nettoyage de gaz d’échappement. Ainsi, on peut traiter des gaz par des étapes successives. Premièrement par un lavage, puis par un traitement thermique et finalement par un autre lavage. Une telle serie est effectuée dans nos modèles SBW et SWB.

SemiAn offre des systèmes d’abattement de gaz d’échappement qui ont été développés spécialement pour des équipements de procédés, tels ceux qui sont en usage dans l’industrie des semiconducteurs et dans la production des affichages aux cristaux liquides. Conformement, nos laveurs sont disposés à des débits de gaz de 100 – 1.200 slm, resp. 6-72 m3/h. Néanmoins, nous sommes aussi en mesure d’offrir fiablement des laveurs de ce format pour des autres applications.

exhaust gas cleaner SSW200 Specification SSW 200
Total gas treatment volume
 200 slm
Gas inlet
 100A flange, 1 port
Gas exhaust
 65A flange, 1 port / -25 ~ -75mm H2O
Electrical power consumption
 max. 300 W
Voltage
 230 V / 1 phase / 50Hz
Water max. 4 slm, 2~3 kgfcm2,1/4" fitting
Nitrogen max. 25 slm, 4~6 kgfcm2,1/4" fitting
Dimensions 400(W) × 500(D) × 1500(H)
Weight 200 kg

Crystec Technology Trading GmbH est disposé à discuter la suite en détail avec vous.
contenuTable
des Matières
 emailPour recevoir des informations supplémentaires?
Veuillez nous contacter, s'il vous plait. 		aux debut de pageAu début
de la page