| Endpunktbestimmung beim Plasmaätzen durch Laserlicht-Polarisationsänderung, Interferometer oder optische Spektrometer. | ||
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Bei der Fertigung von integrierten Schaltkreisen ICs ist es notwendig aufgebrachte Schichten zu strukturieren. Dazu muss man die Schichten teilweise entfernen. Heutzutage geschieht dies durch Trocken- oder Plasmaätzen.
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| ungeätzt | unvollständiges Ätzen | vollständiges Ätzen | Überätzen |
Zuerst wird ein Fotolack auf die Schichten abgeschieden, dann wird der Fotolack belichtet und entwickelt. Eine Maske wird erstellt. Diese Maske schützt einen Teil der Schicht, während die ungeschützten Bereiche mit Hilfe von Plasma geätzt werden. Das Ziel des Ätzvorgangs ist es, die Schicht in den ungeschützten Bereichen komplett zu entfernen ohne die darunterliegende Schicht zu beschädigen. Um dies zu erreichen, gibt es verschiedene Möglichkeiten:
Die letzten drei Methoden sind sogenannte Endpunktbestimmungen. Alle drei Methoden können mit Trion Plasmaätzern durchgeführt werden.
Ein Interferometer misst den Unterschied zwischen zwei oder mehreren Lichtpfaden. Dies geschieht durch Überlagerung der Lichtstrahlen, bei der Interferenzmuster entstehen. Es wird eine monochrome Lichtquelle verwendet, die an der Oberfläche der Probe reflektiert. Sie wird von einem Referenzlichtstrahl überlappt. Kleine Änderungen im Bereich der Wellenlänge der Lichtquelle können erkannt werden.
Der Graph zeigt die Überlappung von zwei Wellenlängen (grün und blau), sowie das sich
daraus ergebende Interferogramm (rot).
Trion bietet ein eigenes Interferometer für Plasmaätzer an. Dieses Endpunktbestimmungssystem verwendet einen
670nm Laser mit einem Beleuchtungsquerschnitt der bis auf 1-2 mm fokusiert werden kann.
Der vom Wafer reflektierte Strahl wird von einem lichtempfindlichen Photozellenschaltkreis, der die Lichtintensität
in ein analoges Spannungssignal umwandelt, detektiert. Dieses Signal wird zum E/A des Steuerungscomputers gesandt.
Das Interfrenzmuster sowie die entsprechenden Verschiebungen, die mit der Schichtdickenänderung während des
Ätzprozesses einhergehen, werden auf dem Computerdisplay als Graph Spannung gegen Zeit dargestellt.
Da die Software die Eigenschaften des Films kennt, kann sie so konfiguriert werden, dass sie an einem bestimmten
Endpunkt, entweder eine bestimmte Ätzdicke oder nach kompletter Entfernung der Materialschicht, den Ätzprozess
beendet. Die gleiche Methode kann natürlich auch für PECVD Abscheidevorgänge eingesetzt werden, so dass die Anlage
nach Erreichung einer vorgegebenen Schichtdicke abschaltet.
Diese Endpunktbestimmung kann auch bei ICP-Anlagen mit leichten Anpassungen der Laser- und Detektorposition
eingesetzt werden.
Diese Methode ist eine Kombination aus Interferometrie und Reflektrometrie, gekoppelt mit leistungsstarker Software zur Auswertung des gemessenen Signals.

Das reflektierte Licht ist eine Kombination der Signale von jeder Schicht innerhalb der
Probe und es werden spezielle Interferenzmuster für jede Probe generiert, die auf einem Monitor angezeigt werden
können. Der Messpunkt kann entweder allein auf das zu ätzende Material oder auch teilweise auf die Maskenoberfläche
gesetzt werden.
Zur Endpunktbestimmung kann das Interferenzmuster für verschiedene Schichten simuliert werden und dann während
des Ätzens mit dem gemessenen Signal verglichen werden. Diese Methode ist sehr effektiv und kann für das
kontrollierte Ätzen und die Endpunktbestimmung von Proben mit zwei oder mehr Schichten verwendet werden.
Sie kann auch zur Rückätzung von Nichtleitern auf Metallen eingesetzt werden. Dies ist für unterschiedliche
Anwendungen, wie z.B. für die Fehleranalysenötig.
Das Messsystem wird vor einem Fenster mit senkrechtem Blickwinkel auf die zu ätzende Probenoberfläche montiert.
Die obere Elektrode hat ein Loch, das die Messung ermöglicht. Die Anlage besteht aus einem optischen Kopf,
der eine 670nm Laserquelle, einen Detektor und eine CCD Kamera beinhaltet sowie einem Steuergerät.
Der optische Kopf ist auf einer XY- und Neigungsverstellung angebracht, so dass der Benutzter den Laserstrahl auf
eine bestimmte Ätzstelle richten kann. Der Bleuchtungsquerschnitt beträgt um die 50 µm.
Die Plasmafarbe wird durch die Teilchen im Gas bestimmt. Neben den Molekülen des Ätzgases und dessen Bruchstücken, gelangen zusätzlich auch Atome der Ätzschicht in das Plasma und beinflussen die Farbe und das optische Spektrum des Plasmas. Wenn sich das Ätzmaterial ändert, ändert sich manchmal die Farbe so stark, dass man es mit dem bloßen Auge durch das Fenster in der Plasmakammer sehen kann. Um die Lichtemission des Plasmas zu messen, kann man ein optisches Spektrometer verwenden. Trion verwendet ein kleines Spektrometer, welches Lichtemmissionen des Plasmas im Bereich von 250nm bis 800nm erkennen kann. Ein einsträngiges Glasfaserkabel, das an der Seite der Plasmakammer angebracht ist, wird verwendet um das Licht zum Spektrometer zu leiten, in dem ein fixiertes Gitter das Licht streut. Das aufgespaltene Licht wird mithilfe eines linearen CCD Detektors aufgenommen. Die Anlage, die von Trion eingesetzt wird, ist sehr schnell und kann jede Millisekunde ein volles Spektrum abspeichern. Außerdem hat es eine hohe Empfindlichkeit und eine Auflösung bis zu 0.35 nm (FWHM). Die Software kann entweder ständig das volle Spektrum darstellen oder aber die Intensität einer bestimmten Spektrallinie über die Zeit und so den richtigen Endpunkt bestimmen.

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