| Anwendungszentrum Ångström Labor der Universität Uppsala. | ||
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Die Universität von Uppsala ist ein Partner von
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Das Ångström Labor der Universität Uppsala, Schweden hat eine enge Zusammenarbeit mit den Firmen Koyo Thermo Systems Co., Ltd. und Crystec Technology Trading GmbH im Bereich Halbleiterofentechnologie vereinbart.

Das Ångström Labor ist das Materialforschungszentrum der Universität Uppsala. Das Institut beschäftigt sich mit Forschung im Bereich neue Materialien und der Ausbildung von Studenten. Integrierte Bauelemente, Solarzellen, elektrische Batterien und ermüdungsfreie mechanische Komponenten sind wesentlichen Arbeitsgebiete des Institutes. Das Institut unterhält viele Kooperationen, beschäftigt rund 350 Angestellte, bildet 1000 Studenten aus und hat einen Jahresetat von 200 MSEK.
Die Leitung des Instituts erfolgt durch ein Gremium unter der Führung von Prof. Jan-Otto Carlsson.
Das Herzstück des Institutes ist der Anfang 1998 fertiggestellte Reinraum. Die Gesamtfläche beträgt 2000 m2 und ist auf 30 Labors aufgeteilt. Der größte Teil des Reinraums ist Klasse 10.000. 150 m2 weisen eine Reinraumklasse 100 mit einer Gasführung von der Decke zum Boden auf, in der wiederum kleinere Bereiche als Klasse 10 bzw. Klasse 1 Reinraum ausgeführt sind. Die Temperaturstabilität beträgt ± 1°C. Die Feuchtigkeit wird auf 43 ± 3 % stabil gehalten.
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#5 |
Hochtemperatur-
Tempern 400°C – 1250°C |
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LTO, BPSG
& TEOS 400°C – 900°C |
#10 |
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#4 |
Phospordotierung
mit Festquelle 400°C – 1100°C |
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Silicium-Nitrid
Abscheidung 400°C – 900°C |
#9 |
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#3 |
Bordotierung
mit Festquelle 400°C – 1100°C |
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Poly-Silicium
Abscheidung 400°C – 900°C |
#8 |
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#2 |
Oxidation
Ext. Verbrennung, t-LC 400°C – 1100°C |
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Post Metall Tempern
Formiergas 200°C – 800°C |
#7 |
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#1 |
Oxidation
Ext. Verbrennung, t-LC 400°C – 1100°C |
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Gate Oxidation
Ext. Verbrennung, t-LC 400°C – 1100°C |
#6 |
Alle Öfen sind mit Koyo Thermo Systems LGO-Heizern ausgestattet, die aufgrund ihrer sehr niedrigen thermischen Masse besonders gute Temperaturgleichmäßigkeit im Ofen gewährleisten.
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