Horizontalofen, Diffusionsofen

Horizontalöfen

JTEKT Thermo Systems (ehemals Koyo Thermo Systems) produziert zahlreiche Versionen von Horizontalöfen mit vollautomatischem und manueller Bedienung. Kleine Versionen für Pilotlinien und Forschungsinstitute stehen zur Verfügung.

Die Anlagen werden oft unterschiedlich bezeichnet: Horizontalofen, Diffusionsofen, Rohrofen, Dotierofen, Oxidationsofen, Halbleiterofen. Sie sind für viele Prozesse in der Halbleiterherstellung wie Diffusion, Oxidation sowie LPCVD-Prozesse (Nitrid, poly-Silicium, TEOS) und zur Dotierung von Solarzellen mit Phosphoroxychlorid POCl₃ verfügbar.

Ein Spezialgebiet von JTEKT Thermo Systems sind Niedrigtemperaturanwendungen wie beispielsweise Polyimidhärtung, Kupfer-Tempern, low-k, SOG oder Wasserstofftempern.

Spezifikation

Bereich	Details
Ofen	Wafer-Größen 3"- 8" Flat-Zone Längen 250-1000 mm 3 oder 4 Prozessrohre DDC / Rechnerkopplung
Konstruktion	Vollständig getrennte Prozesse in den Rohren optionaler Bootliftmechanismus Spezialboden mit Nivellierrahmen vertikal aufgebautes Gaspanel, rückseitige Prozessrohrentnahme möglich
Beladestation	Horizontaler laminarer Gasfluss Beleuchtung Cantilever- oder Soft-Lander Beladung
Prozessrohrabsaugung / Kühlung	Vollintegrierte Absaugung 2 Luft/Wasser-Wärmetauscher pro Rohr Absaugüberwachung spezielle Absaugung während Beladung/Entladung energiesparende Dichtungen
Wartung / Zugang	Unabhängige Prozessrohre in herausziehbaren Schubladen Drucksteuerung im unteren Bereich des Gaskabinettes zur Zugangserleichterung Alle Thermoelemente werden von vorne eingeführt und über die gesamte Länge abgestützt Zugang von vorne Eingebaute Heizelementjustiervorrichtung
Heizelemente	LGO Heizer für Supereigenschaften bis zu 1100°C HGC Heizer für Hochtemperaturanwendungen bis 1250°C
Quarzausstattung	Reaktionskammer, bestehend aus Quarzrohr, Quarzboot, evt. Quarzliner, Injektor, Thermoelementrohr, usw. Bei Hochtemperaturversionen teilweise auch SiC-Rohr bzw. SiC-Boot
Automatisierung	Optionaler Boot-Lift Optionaler Beladeroboter

Vertikalofen als Alternative für F&E-Institute und Pilotlinien

VF1000 Vertikalofen

Suchen Sie nach einem Horizontalofen, nur weil dieser billiger ist? Haben Sie kleine Durchsätze und würden Sie gerne kleine Mengen Wafer prozessieren? Möchten Sie eine Superperformance? Dann hat JTEKT Thermo Systems einen Ofen gerade für Sie entwickelt! Bitte werfen Sie einen Blick auf den VF1000 Ofen.

Der kleine Vertikalofen wurde speziell für Pilotlinien und Forschungslabors entwickelt und weist die gleiche Leistungsfähigkeit wie entsprechende Produktionsöfen auf. Der Ofen ist auf kleine Chargen von 25 Wafern ausgelegt und für Wafergrößen von 3"- 12" verfügbar. Die manuelle Beladung des Bootes ermöglicht einen niedrigen Preis und erlaubt hohe Flexibilität. Die kompakten Abmessungen sparen Platz und Kosten.

Automatischer Bootlift und programmierbare Steuerung werden genutzt, um sehr gute Prozessergebnisse zu erzielen. VF1000 Öfen sind für alle Prozesse auslegbar und weisen ähnliche Prozessleistungen wie die größeren Modelle VF5100 und VF5300 auf. Wie die größeren Versionen sind auch die VF1000 Öfen mit den patentierten LGO-Heizelementen ausgestattet. Der verfügbare Temperaturbereich reicht von 140°C bis 1250°C.

Sie können solche Vertikalöfen in Uppsala am Ångström Laboratorium der Universität besichtigen und evaluieren. Die Universität Uppsala arbeitet mit uns als Anwendungszentrum für Vertikalöfen VF1000 zusammen. Auf Anfrage können wir alternativ auch einen Besuch an der Universität Southampton arrangieren.

Bitte folgen Sie diesem Link um Vor- und Nachteile von Vertikal- und Horizontalöfen im Vergleich zu finden!

Inline / Kontinuierlicher Horizontalofen

Hauptsächlich für die Dotierung von Solarzellen mit Phosphoroxychlorid POCl₃ hat JTEKT jetzt auch einen kontinuierlichen Horizontalofen entwickelt, der sich auch im Halbleiterbereich und für andere Halbleiterprozesse einsetzen lässt, sofern die Prozesszeit nicht zu lang ist. Die Wafer werden auf Quarzwägen mit einer Beladung von je 100 Wafern schrittweise durch den Ofen geschoben. Gasschleusen an beiden Enden des Rohres trennen den Prozessraum von der Umgebung.

Die Vorteile eines solchen Ofens liegen auf der Hand: Zwei Rohre nebeneinander ermöglichen eine einfache Automatisierung. Durch den Wegfall der Beladestation ergibt sich eine deutlich kleinere Standfläche als beim herkömmlichen Horizontalofen. Da die Beladezeit entfällt wird der Durchsatz erheblich gesteigert.

Der Ofen spart Energie, da Aufheiz- und Abkühlphasen entfallen. Da kein Transportband installiert ist, kommt es nicht zu thermischen Verlusten durch das Ausfahren eines heißen Transportbandes. Es wird weniger Gas verbraucht, da keine Spülprozesse nötig sind. Aufgrund des einfacheren Aufbaus ist der Ofen zudem kostengünstiger.