Four diffusion horizontal

Fours horizontaux

JTEKT Thermo Systems (anciennement Koyo Thermo Systems) produit de nombreuses versions de fours horizontaux avec commande entièrement automatique ou manuelle. Des versions compactes pour lignes pilotes et instituts de recherche sont disponibles.

Les équipements portent souvent des appellations différentes : four horizontal, four de diffusion, four tubulaire, four de dopage, four d'oxydation, four pour semi-conducteurs. Ils sont disponibles pour de nombreux procédés en fabrication de semi-conducteurs tels que la diffusion, l'oxydation ainsi que les procédés LPCVD (nitrure, poly-silicium, TEOS) et pour le dopage des cellules solaires au POCl₃.

Une spécialité de JTEKT Thermo Systems concerne les applications basse température comme le durcissement du polyimide, le recuit du cuivre, le traitement low-k, le SOG ou le recuit à l'hydrogène.

Spécification

Domaine	Détails
Four	Tailles de wafer 3"- 8" Longueurs de zone plate 250-1000 mm 3 ou 4 tubes de procédé DDC / couplage ordinateur
Construction	Processus complètement séparés dans les tubes mécanisme de levage du boat optionnel plancher spécial avec châssis nivelable panneau gaz monté verticalement, retrait du tube de procédé possible par l'arrière
Station de chargement	Flux laminaire de gaz horizontal Éclairage Chargement cantilever ou Soft-Lander
Évacuation / refroidissement du tube de procédé	Évacuation entièrement intégrée 2 échangeurs air/eau par tube surveillance d'évacuation évacuation spéciale lors du chargement/déchargement joints économes en énergie
Maintenance / Accès	Tubes de procédé indépendants dans des tiroirs amovibles. Contrôle de pression dans la partie inférieure de l'armoire gaz pour faciliter l'accès Tous les thermocouples sont introduits par l'avant et soutenus sur toute leur longueur Accès frontal Dispositif intégré d'ajustement des éléments chauffants
Éléments chauffants	Chauffages LGO pour des caractéristiques supérieures jusqu'à 1100°C Chauffages HGC pour applications haute température jusqu'à 1250°C
Équipement en quartz	Chambre de réaction composée d'un tube en quartz, d'un boat en quartz, éventuellement d'une doublure en quartz, d'un injecteur, d'un tube pour thermocouple, etc. Pour les versions haute température, parfois aussi tube ou boat en SiC
Automatisation	Levage du boat en option Robot chargeur optionnel

Four vertical comme alternative pour les instituts R&D et les lignes pilotes

VF1000 Four vertical

Cherchez-vous un four horizontal uniquement parce qu'il est moins cher ? Avez-vous de petits débits et souhaitez-vous traiter de faibles quantités de wafers ? Voulez-vous des performances supérieures ? Alors JTEKT Thermo Systems a développé un four spécialement pour vous. Veuillez consulter le four VF1000.

Le petit four vertical a été spécialement conçu pour les lignes pilotes et les laboratoires de recherche et possède les mêmes performances que des fours de production comparables. Le four est conçu pour de petites charges de 25 wafers et est disponible pour des tailles de wafers de 3" à 12". Le chargement manuel du boat permet un prix bas et une grande flexibilité. Les dimensions compactes permettent d'économiser de l'espace et des coûts.

Un levage automatique du boat et une commande programmable sont utilisés pour obtenir d'excellents résultats de procédé. Les fours VF1000 peuvent être adaptés à tous les procédés et offrent des performances proches des modèles plus grands VF5100 et VF5300. Comme les versions plus grandes, les VF1000 sont équipés des éléments chauffants brevetés LGO. La plage de température disponible va de 140°C à 1250°C.

Vous pouvez visiter et évaluer ces fours verticaux à Uppsala au Laboratoire Ångström de l'Université d'Uppsala. L'Université d'Uppsala collabore avec nous en tant que centre d'applications pour les fours VF1000. Sur demande, nous pouvons également organiser une visite à l'Université de Southampton.

Veuillez suivre ce lien pour une comparaison des avantages et inconvénients des fours verticaux et horizontaux !

Four horizontal en ligne / continu

Principalement destiné au dopage des cellules solaires avec du POCl₃, JTEKT a développé un four horizontal continu qui peut aussi être utilisé dans le domaine des semi-conducteurs et pour d'autres procédés, à condition que la durée du procédé ne soit pas trop longue. Les wafers sont placés sur des wagons en quartz avec une charge de 100 wafers chacun et poussés progressivement à travers le four. Des sas gas en bout de tube séparent la chambre de procédé de l'environnement.

Les avantages d'un tel four sont évidents : deux tubes côte à côte permettent une automatisation simple. En supprimant la station de chargement, l'encombrement est nettement plus faible que pour un four horizontal conventionnel. L'absence de temps de chargement augmente considérablement le débit.

Le four permet d'économiser de l'énergie car les phases de chauffage et de refroidissement sont supprimées. Comme aucune bande transporteuse n'est installée, il n'y a pas de pertes thermiques liées à l'extension d'une bande chaude. Moins de gaz est consommé car aucun cycle de purge n'est nécessaire. En raison de sa construction plus simple, le four est également moins coûteux.