Die Clean Batch System CBS-Serie wurde für anspruchsvolle thermische Prozessschritte in der modernen Display- und Elektronikfertigung entwickelt. Mit ihrem robusten Anlagenkonzept verbindet sie hohe Prozessstabilität mit maximaler Effizienz und ermöglicht gleichzeitig eine Integration in vollautomatisierte Fertigungslinien.
Die Anlage überzeugt durch ein wartungsfreundliches Design, das eine hohe Anlagenverfügbarkeit sicherstellt, sowie durch eine flexible Architektur, die sich optimal an unterschiedliche Produktionsumgebungen anpassen lässt. Damit bietet die CBS-Serie eine zukunftssichere Plattform für verschiedenste Wärmebehandlungsprozesse, von beschleunigten Aushärtungszyklen bis hin zu präzisen Post-Bake-Anwendungen.
| Technische Merkmale | Produktdaten |
|---|---|
| Systemtyp | Batch-basiertes Clean-Ofensystem für LTPS-Prozesse |
| Layoutflexibilität | Verschiedene Layouts je nach Produktionsvolumen und Substratgröße |
| Wartung | Wartung ohne vollständigen Produktionsstopp möglich |
| Sauerstoffrestgehalt | ≤ 20 ppm nach 90 Minuten N₂-Purge |
| Automatisierung | Host-Steuerung, CIM-/AGV-fähig, automatische Rezeptverwaltung |
| max. Temperatur | Bis 500 °C (Ultra-Hochtemperatur-HEPA-Filter) |
| Reinraumklasse | Klasse 10 (0,3 µm) |
| Kühlsystem | Forcierte Ofenkühlung für verkürzte Zykluszeiten |
| Ramp-Up-Zeit | ca. 30 min (100 → 250 °C) |
| Ramp-Down-Zeit | ca. 60 min (250 → 100 °C) |
| Anwendungsbereiche | Post-Bake, Polyimid-Aushärtung, diverse Annealing-Prozesse |