Crystec Technology Trading GmbH

VF1000 : Un four vertical flexible et économique pour la recherche et le développement.

Le VF1000 a été développé pour les laboratoires de recherche, les lignes pilotes et les petites productions et offre une alternative économique aux équipements de production tout en conservant une qualité de procédé équivalente. Grâce aux éléments chauffants LGO brevetés de JTEKT Thermo Systems, au chargement manuel pour une grande flexibilité et à une large palette de procédés possibles, ce four vertical est idéal pour des développements exigeants en oxydation, diffusion, LPCVD, oxynitruration et activation thermique. Des installations dans des centres de recherche européens tels qu'Uppsala et le Fraunhofer IISB confirment sa fiabilité et ses performances.

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VF3000 : Four vertical compact avec de nombreuses fonctionnalités.

Le VF3000 comble la différence entre le VF1000 compact, chargé manuellement, et les grandes installations de production. Avec un chargement automatique et une conception optimisée pour le coût, ce four convient autant aux applications mini‑batch en R&D qu'aux petites productions pilotes. Il traite des wafers de 4 à 8 pouces en lots de 50 à 75 wafers (max. 50 pour 8") et supporte une large gamme de procédés, y compris les traitements ultra‑haute température pour les composants de puissance. Les cassettes sont placées sur des étagères et transportées proprement dans le bateau en quartz par un flux de gaz horizontal. Comme pour tous les fours verticaux JTEKT, des éléments chauffants LGO brevetés assurent une excellente uniformité de température.

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VF5100 : Four vertical hautement automatisé pour gros lots

Le VF5100, introduit en 1990 comme premier four vertical JTEKT doté d'un transfert robotisé, a été continuellement amélioré au fil des ans. Le modèle permet de traiter de 50 à 150 wafers par lot et peut être équipé de jusqu'à 8 cassettes, qui peuvent être chargées automatiquement par AGV. Cinq wafers sont transférés simultanément dans le bateau quartz par un robot de transfert de haute précision. Grâce aux éléments chauffants LGO brevetés et à des options telles que le load‑lock purgé à l'azote et la manipulation de wafers fins, le VF5100 satisfait aux exigences les plus strictes en matière de qualité de procédé et de fiabilité. Il est utilisé mondialement dans des lignes pilote et de production.

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VF5300 : Four vertical conçu pour la production de masse de wafers jusqu'à 200 mm.

Le VF5300 est une évolution orientée production de la série VF, conçue pour des fabrications continues et à fort volume. Avec un stockeur de cassettes intégré pouvant accueillir jusqu'à 20 cassettes, il permet une exploitation largement automatisée et sans intervention fréquente. Jusqu'à deux (optionnellement trois) lots peuvent être traités automatiquement en séquence. Le système combine la technologie de chauffage LGO éprouvée avec des systèmes de manutention robotique performants et offre une utilisation simple ainsi que des interfaces polyvalentes pour les contrôles supérieurs. Grâce à sa conception modulaire et à ses options étendues, le VF5300 est déployé dans de nombreuses lignes de production à travers le monde.

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VF5700 : Four à montée rapide pour wafers 300 mm.

Le four vertical VF5700 représente l'état de l'art de la technologie mini‑batch pour le traitement des wafers. Grâce à une nouvelle génération d'éléments chauffants LGO innovants, il atteint des vitesses de montée et descente en température extrêmement rapides ainsi qu'une excellente uniformité thermique. Son design compact sans stockeur nécessite peu d'emprise au sol et offre une haute performance à coût réduit. Qu'il s'agisse de wafers 200 mm ou 300 mm, le VF5700 traite de manière flexible de petits lots de 25 à 50 wafers et fournit d'excellents résultats de procédé pour la R&D comme pour la production. Un système de chargement spécialement développé avec robot assure de faibles niveaux de particules et un fort débit, tandis que des options telles que load‑lock, ventilation de refroidissement ou rotation du bateau offrent une flexibilité supplémentaire. Il convient aux procédés d'oxydation, diffusion et CVD sur wafers de silicium ainsi qu'aux applications IGBT, polyimide et wafers fins.

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VF5900 : Four vertical 300 mm performant pour la production de masse.

Le VF5900 a été spécialement développé pour le traitement des wafers 300 mm et peut accueillir jusqu'à 16 FOUPs ainsi que traiter en continu deux lots de 100 wafers de production chacun. Les FOUPs sont gérés via une station de racks où seules les cassettes nécessaires sont transférées vers la station d'échange. Un robot Z‑Theta avec pinces sans vide réalise les transferts tandis que le bateau quartz adopte une structure en marches pour éviter les glissements. Le four utilise des chauffages LGO et est équipé d'un système de refroidissement par ventilateur ainsi que, en option, d'un load‑lock purgé à l'azote. La commande conviviale Model‑1400 est conforme aux standards SEMI et HSMS et est compatible SECS‑II et GEM. Le stockeur FOUP peut être détaché du four principal afin de réduire la surface en salle blanche. Outre les wafers de silicium, le four convient également au traitement thermique d'IGBT, de polyimide, de wafers fins et d'autres matériaux.

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