Vertikalöfen für 150mm und 200mm Wafer

JTEKT Thermo Systems wird in Europa vertreten durch
Crystec Technology Trading GmbH

VF-5100

Vertikalofen für mittlere bis große Produktionseinheiten.

Der VF-5100 Vertikalofen verwendet einen Roboterarm um Wafer in einem Durchmesser von 4 bis 8 Zoll zu transportieren.


Zusammenfassung

Dieser Typ VF5100 wurde 1990 als erster Vertikalofen von JTEKT (ehemals Koyo Thermo Systems) mit Roboterumhordung der Wafer eingeführt und wurde über die Jahre immer weiterentwickelt. Dieses beliebte Modell wird mittlerweile von vielen Firmen in der ganzen Welt eingesetzt. Die Automatisierung arbeitet sehr zuverlässig und erfordert wenig Wartungsarbeiten. Bis zu 8 Kassetten können auf ein Karussell geladen werden. Dies kann auch automatisch durch ein AGV (Beladeroboter) geschehen. 150 Wafer können in einem Arbeitsgang prozessiert werden. 5 Wafer können gleichzeitig durch den super-sauberen Transfer-Roboter von der Kassette in das Quarzboot geladen werden. Die Umhordung ist effizient und zuverlässig. Die JTEKT-spezifischen LGO Heizelemente erfreuen sich großer Beliebtheit bei den Kunden. Eine stickstoffgespülte Beladekammer (loadlock) steht als Option zur Verfügung, um die natürliche Oxidation der Wafer zu verhindern. Eine SMIF-Version dieses Ofens ist auch verfügbar.


Features

1. Kassettenspeicher
Der einfache Aufbau des als Drehteller ausgeführten Kassettenspeichers arbeitet sehr zuverlässig und erfordert kaum Wartung.

2. Transfer-System
Die Überführung der Wafer durch ein bewährtes Robotersystem trägt zur Zuverlässigkeit der Anlage bei.

3. N2 load lock
Der VF-5100 war der erste Ofen, der mit einer gasdichten Beladezone ausgestattet wurde, die zur Reduktion der natürlichen Oxidation der Wafer vor der Prozessierung beiträgt.

4. Installation
Mehrere Öfen vom Typ VF5100 können Seite an Seite ohne Zwischenraum installiert werden.


VF-5100

Spezifikation
Modell VF-5100
Wafergröße 4" - "8
Außendimensionen (mm) W1000 x D1950 x H3250
Landungsmenge 150
Beständige Behandlung -
Heizer LGO Heizer
Service Temperatur 300 - 1050°C
Fläche (mm) 960
Temperatursteuerung 4zone
Kassettenspeicher 8
Prozesskassetten 6
Dummykassetten 1
Monitorkassetten 1
Wafer Transfer vacuum/vacuumless
Finger 5
Steuerung Model 1000
Geeignet für SECS möglich
Geeignet für AGV möglich
Geeignet für SMIF/FOUP möglich

Prozess - Übersicht
Pyro.Ox Thick
film
Pyro.Ox Thin
film
P-D-Poly Poly-Si HTO Si3N4 TEOS
Reaktionsgas O2.H2 O2.H2 SiH4.PH3.H2 SiH4 SiH2Cl2.N2O SiH2Cl2.NH3 Si(C2H5O)4.O2
Wachstumstemp.(C°) 1000 - 1250 800 - 1000 550 - 600 600 - 620 870 - 890 770 - 800 - 750
Wachstumsrate(A/min) - - 12 - 20 60 - 100 40 - 50 20 - 50 - 100
Waferanzahl(sheet) 150 150 25 100 100 100 100/50
Dichtigskeits-
variation(%)
Innerer Wafer 2 2 3 2 3 3 4 3
Wafer im Zwischenraum 2 2 2 2 3 2 3 2
Ladung im Zwischenraum 2 2 2 1 2 2 2 2




Crystec Technology Trading GmbH, Germany, www.crystec.com, +49 8671 882173, FAX 882177
Linie

VF-5300


Zusammenfassung

Der VF5300 stellt eine Weiterentwicklung des VF5100 dar und kann durch einen integrierten Stocker insgesamt 20 Kassetten speichern. Optional können damit bis zu 2 Lose vollautomatisch und ohne Bedienereingriff prozessiert werden. Für diesen Ofen stehen alle denkbaren Optionen zur Verfügung, was seine große Verbreitung sowohl in Asien als auch in USA und Europa erklärt. Der Kassettenspeicher besteht aus mehreren über einander montieren Karussells und besticht durch einfachen Aufbau und zuverlässige Arbeitsweise. Die Bedienung ist einfach. Es stehen zwei unabhängige Bootbeladeroboter zur Verfügung und es werden vakuumlose Handhabungsfinger benutzt. Der Durchsatz ist gegenüber dem VF5100 nochmals höher und das System kann direkt an den übergeordneten Firmenrechner angeschlossen werden. Die bewährten LGO Heizer kommen auch in dieser Anlage zum Einsatz. Eine SMIF Version steht zur Verfügung.


Eigenschaften

1. Kassettenspeicher
Bis zu 20 Kassetten können im Ofen gespeichert werden. Das ermöglicht die kontinuierliche Prozessierung von zwei bis (optional) drei Beladungen ohne Bedienereingriff.

2. Temperaturencharakteristik
Der VF5300 nutzt ein LGO  Heizelement mit unübertroffenen Eigenschaften, insbesondere bei "niedrigen" Temperaturen.

3. Ausstattung
Alle für den Ofenbetrieb nötigen Optionen werden angeboten.

4. Wafer Umhordung
Die Quarzbootbeladung ist frei programmierbar.


VF-5300


Spezifikation
Modell VF-5300
Wafergröße 4" - "8
Außendimensionen (mm) W900 x D2300 x H3250
Ladungsmenge 150
Beständige Behandlung 2/3 Menge
Heizer LGO Heizer
Servicetemperatur 300 - 1050°C
Fläche(mm) 960
Temperatursteuerung 4zone
Kassettenspeicher 20
Prozesskassetten 12
Dummykassetten 5
Monitorkassetten 3
Wafer Transfer vacuumless
Finger 5+1
Steuerung Modell 1100
Geeignet für SECS möglich
Geeignet für AGV möglich
Geeignet für SMIF/FOUP möglich

Prozess - Übersicht
Pyro.Ox Thick
film
Pyro.Ox Thin
film
P-D-Poly Poly-Si HTO Si3N4 TEOS
Reaktionsgas O2.H2 O2.H2 SiH4.PH3.H2 SiH4 SiH2Cl2.N2O SiH2Cl2.NH3 Si(C2H5O)4.O2
Wachstumstemp.(C°) 1000 - 1250 800 - 1000 550 - 600 600 - 620 870 - 890 770 - 800 - 750
Wachstumsrate(A/min) - - 12 - 20 60 - 100 40 - 50 20 - 50 - 100
Waferanzahl(sheet) 150 150 25 100 100 100 100/50
Dichtigskeits-
variation(%)
Innerer Wafer 2 2 3 2 3 3 4 3
Wafer im Zwischenraum 2 2 2 2 3 2 3 2
Ladung im Zwischenraum 2 2 2 1 2 2 2 2


Crystec Technology Trading GmbH, Germany, www.crystec.com, +49 8671 882173, FAX 882177
Linie

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