VF5100 : Four vertical hautement automatisé pour grands lots.
Le VF5100 est un four vertical hautement automatisé conçu pour des volumes de production moyens à importants et a été développé spécifiquement pour le traitement efficace de grands lots de plaquettes. En tant que premier système de four vertical avec manutention robotisée introduit par JTEKT (anciennement Koyo Thermo Systems), le VF5100 a établi des standards de fiabilité et de productivité depuis 1990. Continuement amélioré au fil des décennies, il est aujourd'hui reconnu dans le monde entier comme l'un des modèles de production les plus populaires.
Avec la capacité de traiter des plaquettes de 4 à 8 pouces en tailles de lots flexibles de 50 à 150 plaquettes, le VF5100 répond parfaitement aux exigences des lignes de production modernes. Jusqu'à 8 cassettes peuvent être mises à disposition dans un système robuste à plateau tournant conçu pour la fiabilité maximale et un entretien minimal. Le chargement peut également être entièrement automatisé via un système AGV en option. Un robot de transfert précis insère cinq plaquettes simultanément dans le bateau en quartz, assurant un transport rapide, propre et délicat des plaquettes.
Équipé des éléments chauffants brevetés LGO et de chauffages MoSi₂, le VF5100 prend en charge une large gamme de procédés thermiques : des procédés LPCVD (Si₃N₄, polysilicium) à l'oxydation et la diffusion en passant par des procédés ultra‑haute température tels que l'oxynitruration de grille SiC ou les recuits d'activation. Une chambre de chargement (load‑lock) purgée à l'azote empêche l'oxydation native avant le traitement, tandis qu'une version SMIF est disponible pour des exigences de propreté particulièrement élevées. Le VF5100 offre ainsi une flexibilité, une efficacité et une qualité de procédé optimales pour des productions exigeantes dans les domaines de la puissance et des semi‑conducteurs.
Avantages
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Stockage de cassettes fiable
Le robuste système de cassettes à plateau tournant fonctionne avec une fiabilité particulièrement élevée et nécessite un entretien minimal. Jusqu'à 8 cassettes peuvent être fournies pour de grands volumes de production. -
Système de transfert éprouvé
Un robot haute précision transporte les plaquettes efficacement et en douceur. Jusqu'à cinq plaquettes sont transférées simultanément dans le bateau en quartz — idéal pour des flux de production rapides et stables. -
Load‑lock N₂ pour la plus grande pureté
Le VF5100 a été le premier système JTEKT avec une zone de chargement hermétique purgée à l'azote. Cela empêche l'oxydation native des plaquettes et garantit des conditions optimales avant le procédé thermique. -
Support de procédés flexible
Avec des chauffages sélectionnables (LGO, MoSi₂ ou carbone) le VF5100 prend en charge le recuit basse température, le LPCVD (Si₃N₄, polysilicium), l'oxydation, la diffusion et des procédés exigeants en ultra‑haute température. -
Grande capacité de lot
Les tailles de lots peuvent être choisies de manière flexible entre 50 et 150 plaquettes, ce qui rend le VF5100 idéal pour des pilotes moyens jusqu'à des lignes de production complètes. -
Haute automatisation & compatibilité AGV
Les cassettes peuvent être chargées manuellement ou automatiquement via des systèmes AGV. Cela permet une intégration transparente dans les lignes de production automatisées. -
Installation efficace
Plusieurs systèmes VF5100 peuvent être installés côte à côte sans espaces intermédiaires, idéal pour des zones de production à haut débit et espace limité.
| Caractéristiques techniques | Données produit |
|---|---|
| Dimensions extérieures | W900 × D1850 × H2930 mm (100 plaquettes) W1000 × D1950 × H3300 mm (150 plaquettes) |
| Tailles de plaquette | 4 à 8 pouces |
| Taille de lot / quantité chargée | 50-150 plaquettes |
| Stockage de cassettes | 8 cassettes |
| Cassettes de procédé | 6 |
| Doigts / transfert des plaquettes | 5 plaquettes + manutention single wafer avec/sans vide |
| Chargement | Automatique avec manutention robotisée |
| Technologie de chauffage | Éléments chauffants LGO, chauffages MoSi₂ |
| Temp. de fonctionnement maxi | 1150 °C (LGO) 1400 °C (chauffages MoSi₂) |
| Contrôle de température | 4 zones |
| Longueur de la zone plane | 960 mm |
| Certification | CE |
| Communication HOST | optionnelle |
| Compatibilité SECS | optionnelle |
| Compatibilité AGV | optionnelle |
| Compatibilité SMIF/FOUP | optionnelle |
| Options | Refroidissement forcé, N₂ Load‑Lock, gestion plaquettes fines, tailles de plaquettes convertibles |
| Type / Libellé | Pyro.Ox Film épais |
Pyro.Ox Film fin |
P‑D‑Poly | Poly‑Si | HTO | Si3N4 | TEOS | ||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| Gaz de réaction | O2/H2 | O2/H2 | SiH4/PH3/H2 | SiH4 | SiH2Cl2/N2O | SiH2Cl2/NH3 | Si(C2H5O)4/O2 | ||
| Température de croissance (°C) | 1000 - 1250 | 800 - 1000 | 550 - 600 | 600 - 620 | 870 - 890 | 770 - 800 | 750 | ||
| Vitesse de croissance (Å/min) | - | - | 12 - 20 | 60 - 100 | 40 - 50 | 20 - 50 | 100 | ||
| Nombre de plaquettes (sheet) | 150 | 150 | 25 | 100 | 100 | 100 | 50/100 | ||
| Plaquette interne | 2 | 2 | 3 | 2 | 3 | 3 | 4 | 3 | |
| Variation d'uniformité (%) | Plaquettes dans l'entre‑espacement | 2 | 2 | 2 | 2 | 3 | 2 | 3 | 2 |
| Charge dans l'entre‑espacement | 2 | 2 | 2 | 1 | 2 | 2 | 2 | 2 | |
Un aperçu de nos fours verticaux est disponible ici.